プラズマイオン注入法を用いた薄膜形成、および表面処理
URI | http://harp.lib.hiroshima-u.ac.jp/it-hiroshima/metadata/12427 | ||||||
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ファイル |
research56_145-154.pdf
( 2.0 MB )
公開日
:2022-04-18
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タイトル |
プラズマイオン注入法を用いた薄膜形成、および表面処理
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別タイトル |
Thin film formation and surface treatment using plasma ion implantation method
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著者 |
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キーワード |
plasma based ion implantation, plasma density, oxygen, nitrogen
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抄録 |
In the PBII method, the ion density in the sheath could be obtained based on the modulator equivalent circuit. In the PBII method, the self-ignitting plasma used in the sterilization process was formed, and the plasma density and sheath length could be calculated from the obtained discharge current-high voltage voltage waveform. Using this method, some of the important parameters such as plasma density and sheath length could be obtained when designing the equipment in the future. |
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掲載雑誌名 |
広島工業大学紀要. 研究編
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巻 |
56
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開始ページ |
145
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終了ページ |
154
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出版年月日 |
2022-03
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出版者 |
広島工業大学
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ISSN |
1346-9975
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NCID |
AA11599110
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本文言語 |
日本語
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資料タイプ |
紀要論文
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著者版フラグ | |||||||
権利情報 |
publisher
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区分 |
it-hiroshima
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