プラズマイオン注入法を用いた薄膜形成、および表面処理

URI http://harp.lib.hiroshima-u.ac.jp/it-hiroshima/metadata/12427
ファイル
タイトル
プラズマイオン注入法を用いた薄膜形成、および表面処理
別タイトル
Thin film formation and surface treatment using plasma ion implantation method
著者
氏名 田中 武
ヨミ タナカ タケシ
別名 Takeshi TANAKA
キーワード
plasma based ion implantation, plasma density, oxygen, nitrogen
抄録

 In the PBII method, the ion density in the sheath could be obtained based on the modulator equivalent circuit. In the PBII method, the self-ignitting plasma used in the sterilization process was formed, and the plasma density and sheath length could be calculated from the obtained discharge current-high voltage voltage waveform. Using this method, some of the important parameters such as plasma density and sheath length could be obtained when designing the equipment in the future.

掲載雑誌名
広島工業大学紀要. 研究編
56
開始ページ
145
終了ページ
154
出版年月日
2022-03
出版者
広島工業大学
ISSN
1346-9975
NCID
AA11599110
本文言語
日本語
資料タイプ
紀要論文
著者版フラグ
権利情報
publisher
区分
it-hiroshima