広島工業大学におけるクリ-ンル-ムの維持および管理

URI http://harp.lib.hiroshima-u.ac.jp/it-hiroshima/metadata/4261
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タイトル
広島工業大学におけるクリ-ンル-ムの維持および管理
別タイトル
Maintenance and Control of Clean Room Equipped for Electronics Education in the Hiroshima Institute of Technology
著者
氏名 田中 武
ヨミ タナカ タケシ
別名 Tanaka Takeshi
氏名 川畑 敬志
ヨミ カワバタ ケイシ
別名 Kawabata Keishi
キーワード
Clean Room Maintenace of the Clean Room
抄録

The microelectronics industry in Japan has grown rapidly in recent years. In general, all steps in the semiconductor process are implemented in a clean room. The air in the clean room is maintained at a well-controlled temperature and is continuously filtered and recirculated. Also the air in the clean room is monitored and classified with respect to particulates. A “class 1000” environment has a maximum of 1000 partic1es per cubic foot with particle size larger than 0.5 μm. Five years have passed since the clean rooms of class 1000 and 10000 in the Department of Electronics, Hiroshima Institute of Technology was established in 1986. An outline and the know-how on the maintenance of the clean room is described.

掲載雑誌名
広島工業大学研究紀要
26
開始ページ
161
終了ページ
168
出版年月日
1992
出版者
広島工業大学
ISSN
03851672
NCID
AN0021271X
本文言語
日本語
資料タイプ
紀要論文
著者版フラグ
出版社版
旧URI
区分
it-hiroshima